1前言
天美檢測儀器：三氯化硼作為一種工業氣體，在有機合成、石油化工、電子和光纖工業領域有廣泛的應用。三氯化硼可用作苯乙烯聚合反應中的催化劑，也可用于硅半導體器件的擴散、離子注入、干法蝕刻和制造太陽能電池元件等工藝過程；也可用作生產光導纖維的基礎材料,其純度對所制器件和光導纖維的質量有直接影響。
在生產三氟化硼工藝中，四氟化硅是最難去除雜質，四氟化硅的含量過高，會影響電路中電子器件的質量。GB/T14603-2009《電子工業用氣體 三氟化硼》規定：三氟化硼氣體中四氟化硅的含量最好在20ppm以下。
目前，氣體中的硅含量的測定方法有很多種（如重量法、原子吸收光譜法、氟硅酸容量法等），硅鉬藍分光光度法存在諸多優點：如，操作簡單、顯色快速穩定、應用廣泛等。
2實驗原理
將三氟化硼氣體通入去離子水中，氣體中的三氟化硼和四氟化硅會發生水解反應，在適當的酸度下（PH=1~2），硅酸根和鉬酸根反應生成黃色的硅鉬酸絡合物，在抗壞血酸的作用下，還原成硅鉬藍，其顏色深度與硅含量成正比。在波長810nm處，使用分光光度計進行分析。
3實驗方法
儀器和條件
天美紫外-可見分光光度計UV1050；1cm比色皿；單波長（810nm）下進行定量測量；
試劑
a. 0.2g/L偏硅酸鈉標準溶液：準確稱量0.1g無水偏硅酸鈉，去離子水溶解后使用500ml容量瓶定容；
b. 10%鉬酸銨溶液：稱量10.000g鉬酸銨，去離子水溶解后，用100ml容量瓶定容；
c. 10%草酸溶液：稱量10.000g草酸，加熱、去離子水溶解后，用100ml容量瓶定容；
d. 0.2%抗壞血酸溶液、1mol/L鹽酸溶液、飽和硼酸溶液（25℃）；
實驗方法
a. 標準曲線的測定
b. 樣品取樣和測定
利用取樣器進行氣體取樣（BF3氣體），40ml去離子水吸收30min；吸收結束后，測量吸收液體的總體積，吸收前后的質量差為樣品量。
取20.00ml樣品，進行顯色反應后，進行吸光度測定；利用標準曲線，得出硅含量，利用下式進行樣品中四氟化硅含量的計算：
Φ=2414V1m/V2m1
Φ: 樣品氣體中四氟化硅的含量（摩爾分數），10-6；
V1：吸收溶液的總體積（ml）；
m: 利用標準曲線得到的硅的質量（mg）;
V2：比色時樣品溶液的取樣量（ml）;
m1: 吸收液中樣品的質量（g）。
2414：換算系數；
兩次平行測定的算術平均值為測定結果。
4硅鉬藍分光光度法測試—助手推薦
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