隨著納米技術(shù)的應(yīng)用日益頻繁，各種納米材料廣泛應(yīng)用于各類產(chǎn)品當(dāng)中。碳納米管（CNT）是使用最廣泛的納米材料之一，其年生產(chǎn)量高達(dá)上千噸。其生產(chǎn)過(guò)程通常會(huì)用到金屬催化劑，因此碳納米管表面可能殘留金屬納米粒子。

       測(cè)量碳納米管上的金屬含量是一項(xiàng)極大的挑戰(zhàn)。XRF 最大的缺陷是它測(cè)量的是樣品的金屬總量，而不是單根或若干根碳納米管上的金屬。TEM 可以測(cè)量單根碳納米管上的金屬或納米粒子，但過(guò)程十分緩慢冗長(zhǎng)，一天之內(nèi)只能測(cè)量少數(shù)幾個(gè)碳納米管樣品。傳統(tǒng)的 ICP-OES 和 ICP-MS 分析缺陷是它們需要完全消解碳納米管，而鑒于其化學(xué)惰性，這將是一項(xiàng)巨大的挑戰(zhàn)。

       單顆粒 ICP-MS（SP-ICP-MS），無(wú)需樣品消解，通過(guò)監(jiān)測(cè)瞬態(tài)金屬信號(hào)即可實(shí)現(xiàn)金屬量的半定量測(cè)量。SP-ICP-MS 還可以在一分鐘之內(nèi)分別對(duì)上千根碳納米管進(jìn)行快速測(cè)量，從而預(yù)估粒子的個(gè)數(shù)和含量。

       使用SP-ICP-MS技術(shù)，可在無(wú)需消解碳納米管（一個(gè)冗長(zhǎng)繁瑣的過(guò)程）的情況下準(zhǔn)確量化碳納米管中的金屬雜質(zhì)。使用金屬雜質(zhì)的含量可以推測(cè)單壁碳納米管的計(jì)數(shù)濃度，有效拓展了 ICP-MS 在納米材料領(lǐng)域的應(yīng)用。