有多少金相工程師曾因為軟金屬及其合金等材料的金相樣品的制備而傷透了心，永遠拋不掉的劃痕不禁都使人有砸了磨拋機的沖動。粗磨、精磨、粗拋、精拋，一步不差，但怎么也得不到好的效果，這也是常規(guī)機械拋光后我們總會反思的問題。

       越軟、延展性越好的材料，在機械拋光作用下，劃痕越難去除，越容易被掩蓋。在機械+化學作用下拋光理論的提出，才使得這些疑難逐漸被破解。

       機械+化學作用拋光應(yīng)用案例

       鋁及鋁合金樣品

       鋁及鋁合金的制備工藝已經(jīng)比較成熟，我們都知道其關(guān)鍵步驟在于最終拋光時選擇的PH值在10~10.5的氧化硅拋光液。在堿性環(huán)境下鋁會發(fā)生微弱的化學反應(yīng)，在機械的協(xié)同作用下，對劃痕的拋光效率和質(zhì)量都大大提高。我們常用的氧化鋁拋光液同樣也可以作為終拋介質(zhì)，但單純機械作用的效果遠不如機械+化學作用下的效果。

       氧化鋁拋光后表面偏黃，仍然觀察到許多細微的劃痕；氧化硅拋光后表面光潔清晰無劃痕，由于其較高的PH值也使得硅相更清晰明顯。

       鈦及鈦合金樣品（鋯及鋯合金）

       我們都知道，鈦及其鈦合金的磨拋制備，其終拋過程是較特殊，也是最關(guān)鍵的，常用的氧化鋁拋光會可能造成劃痕的掩蓋，氧化硅堿性環(huán)境拋光又無法拋動劃痕去除損傷，所以我們通常會將氧化硅與雙氧水以5:1的配比進行混合后作為最終拋光液，效果明顯。

       耐火材料

       除了軟金屬，非金屬材料也有著相關(guān)的應(yīng)用，例如耐火材料，耐火材料多以巖礦或氧化物作為主要組成部分，其中某些組分堅硬如陶瓷，不僅耐磨，且易碎，這就形成了研磨拋光過程中的矛盾點，粗顆粒的金剛石（15μm、9μm）去除效率高，但破碎嚴重；細顆粒的金剛石（3μm、1μm）不造成破碎，但去除效率又極低。

       標樂針對例如：藍寶石、玻璃、氧化物、氮化硅、陶瓷、金屬/陶瓷復合等硬且易碎的材料設(shè)計了一款氧化鐵拋光液，其也是一款機械+化學協(xié)同作用的拋光液，效果顯著。

       研磨及粗拋后留下較嚴重的破碎，1μm金剛石對其去除效率低，所以推薦在3μm金剛石拋光后直接通過氧化鐵來拋光去除破碎痕跡。